Processing of Semiconductors
Modul | Halbleiterprozesstechnik | |||||||||
Veranstaltungsnummer / | L.048.92024 | |||||||||
Koordinator / | Hilleringmann, Ulrich, Prof. Dr.-Ing. | |||||||||
Lehr- und Forschungseinheit / | Sensorik | |||||||||
Typ / | 2 V / 2 Ü | |||||||||
Arbeitspensum / |
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Leistungspunkte / | 6 | |||||||||
Modulseite / | ||||||||||
Zeitmodus / | Sommersemester |
Kurzbeschreibung / Short Description |
Ausgehend vom Siliziumkristall werden die einzelnen Prozessschritte zur Herstellung von integrierten Schaltungen vorgestellt. Dazu gehören thermische Oxidationsverfahren, fotolithografische Prozesse, Ätztechniken, Dotierverfahren, Beschichtungen, Metallisierungen und Reinigungsvorgänge. Aus diesen Prozessschritten entsteht ein Ablaufplan zur Integration von MOS-Transistoren bzw. CMOS-Schaltungen, die im Rahmen der Übungen selbst charakterisiert werden können. Die Vereinzelung der Chips, das Bonden sowie die Kapselung (packaging) der mikroelektronischen Schaltungen runden den Inhalt der Vorlesung ab. |
Inhalt / Content |
Oxidationsverfahren Lithografieverfahren Dotiertechniken CVD-Verfahren MOS-Prozesse
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Lernergebnisse und Kompetenzen / Learning outcomes and competences |
Fachkompetenz / Domain competence: Die Studierenden können die Geräte und Prozesse der Halbleitertechnologie erläutern und dieses Wissen zur Herstellung komplexer integrierter Schaltungen anwenden. |
Methodische Umsetzung / Implementation |
Beamer-Präsentation, unterstützt durch Tafelanschrieb und kurze Videopräsentationen. |
Inhaltliche Voraussetzungen / Prerequisites |
Keine / None |
Kombinationshinweise - Überschneidungen / Overlapping modules |
Keine / None |
Prüfungsmodalitäten / Assessments |
Mündliche Prüfung / oral exam |
Unterrichtssprache / Teaching Language |
Englisch / English |
Lernmaterialien, Literaturangaben / Teaching Material, Literature |
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