Technologie hochintegrierter Schaltungen
Vorlesungsinhalt:
- Lokale Oxidationstechniken
- einfache LOCOS-Technik
- SPOT-Technik
- SILO-Technik
- Poly-buffered LOCOS
- SWAMI-LOCOS-Technik
- Graben-Isolation
- MOS-Transistoren für die Höchstintegration
- SOI-Techniken
- FIPOS
- SIMOX
- Wafer-Bonding
- ELO
- SOS-Technik
- Rekristallisationsverfahren
- Prozessführung in der SOI-Technik
- Nano-Transistoren
- Bipolar-Technologie
- weitere Transistor-Konzepte
Literatur:
Hilleringmann U.: Silizium-Halbleitertechnologie, Teubner-Verlag, 1999
Schumicki, P., Seegebrecht, P.: Prozesstechnologie, Springer-Verlag, 1991
Widmann, D., Mader H.: Technologie hochintegrierter Schaltungen, Springer-Verlag, 1996